VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng)
概述：VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng)是國(guó)內(nèi)目前應(yīng)用廣泛的真空等離清洗機(jī)，性能優(yōu)越，可以同時(shí)處理物理和化學(xué)等材料清洗材料。
ZKDT-4電梯加速度測(cè)試儀是根據(jù)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的有關(guān)要求在國(guó)內(nèi)首創(chuàng)的電梯專(zhuān)用測(cè)試儀器，適用于電梯生產(chǎn)廠家的產(chǎn)品性能
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VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng)
關(guān)鍵詞：等離子，13.56MHZ，真空清洗機(jī)，2L
產(chǎn)品介紹：
VKL-2/3/5/10系列真空等離子清洗機(jī)系統(tǒng)是國(guó)內(nèi)目前應(yīng)用廣泛的真空等離清洗機(jī)，性能優(yōu)越，可以同時(shí)處理物理和化學(xué)等材料清洗材料。兩檔操作模式，兩路氣壓操作系統(tǒng)，全觸摸屏操作，處理參數(shù)任意設(shè)定，是目前高校先進(jìn)材料清洗的首選設(shè)備。
產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域：
1、光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。
2、清洗半導(dǎo)體元件、印刷線(xiàn)路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
3、高分子材料表面的修飾。封裝領(lǐng)域中的清洗和改性，增強(qiáng)其粘附性，適用于直接封裝及粘和。改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
4、涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
5、牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。
6、醫(yī)用領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性。對(duì)醫(yī)療器械的消毒和殺菌
主要技術(shù)參數(shù)：
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型號(hào) |
VKL-2 |
VKL-3 |
VKL-5 |
VKL-10 |
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腔體材料 |
石英玻璃 |
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腔體容量 |
2L |
3L |
5L |
10L |
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內(nèi)腔尺寸 |
100×200Lmm |
150×200Lmm |
150×270Lmm |
220×280Lmm |
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射頻電源功率 |
0-300W 可調(diào) |
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射頻功率 |
13.56MHZ |
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RF放射 |
無(wú) |
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頻率偏移量 |
小于0.2KHZ |
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等離子體轟擊方式 |
從四周往中間 |
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腔體內(nèi)溫度 |
≦30°C/ ≦65°C |
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清洗時(shí)間 |
0-9999S可調(diào) |
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顯示屏 |
3.8寸觸摸屏 |
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操作方式 |
自動(dòng)和手動(dòng)兩種方式均可 |
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噪音 |
≦56dB |
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抽真空時(shí)間 |
啟動(dòng)到發(fā)輝光≦35秒（時(shí)間可調(diào)） |
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真空檢測(cè) |
數(shù)字顯示 |
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冷卻方式 |
強(qiáng)制風(fēng)冷 |
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腔體門(mén) |
高強(qiáng)度鋁合金，橡膠圈密封 |
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真空泵控制方式 |
主機(jī)與真空泵聯(lián)動(dòng)，主機(jī)可以控制真空泵開(kāi)關(guān) |
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供應(yīng)電源 |
AC220V/50HZ |
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工作電流 |
不大于1.2A |
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平衡 |
不倒翁橡膠，自動(dòng)平衡、減震 |
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外形尺寸 |
400x450x250 , 560x540x550, 650*550*475 |
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流量計(jì) |
精密兩路 |
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客戶(hù)名單：
清華大學(xué)材料科學(xué)與工程系
中g(shù)uo科學(xué)院金屬研究所材料科學(xué)與工程
燕山大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院
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上海交通大學(xué)材料學(xué)院復(fù)合材料研究所和金屬基復(fù)合材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室
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