高真空三源真空鍍膜 熱蒸發 三元蒸鍍機 鍍膜儀 金屬及半導體薄膜
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- 桌面型離子濺射 磁控濺射 SEM掃描電鏡 電極制樣 真空鍍膜機儀
- 儀器簡介： HM-ETD-2000C 濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，分為離子濺射和磁控濺射兩種。離子濺射離子密度低，鍍速較慢，能量分散，適合SEM樣品噴金，鍍鉑；磁控濺射離子密度高，鍍...
