轉(zhuǎn)讓日本光弛2350鍍膜機
概述：2.用途：此真空鍍膜機是鍍制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AF+AS膜）型光學(xué)鍍膜機，應(yīng)用于鍍膜機等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備
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1.標(biāo)配參數(shù)：單槍、 離子源、 晶控、23公分的射頻源、 熱阻蒸、 頂部側(cè)部加熱、 兩個擴散泵、一個螺絲泵、一個機械泵
2.特征：磁密封驅(qū)動的基板旋轉(zhuǎn)式可得到穩(wěn)定和均勻的膜厚分布
3.配備：配備RF離子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)；防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)。
4.性能：達到壓強7.0E-5Pa以下
5.配置參數(shù)：
真空室 Ф2350mm×H 1400mm
基板架 Ф2200 mm
基板架轉(zhuǎn)速 20rpm
晶振式膜厚計 6點式⽔晶傳感器
蒸發(fā)源 電⼦槍1臺，熱阻蒸
達到壓強 7.0E-5Pa 以下
排強時間 15分以下（壓強〜2.0×10-3 Pa）
6.工作條件：
設(shè)備尺寸 約6300mm (W)×9000mm (D) ×4000mm (H)
電源 3相,200v,50/60Hz,約80KVA
水流量 220升/分以上
空氣壓力 0.5-0.7mpa
重量 約12000kg
- hcgx2015發(fā)布的信息
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