銅合金靶材生產廠家 

概述:銅靶材用途:適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等,可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等,相對其它靶
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  • 100 元/千克
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Cu銅合金靶材:銅靶材是真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純銅材料經過系列加工后的產品,具有特定的尺寸和形狀高純銅材料。由于高純銅特別是超高純銅具有許多優良的特性,已廣泛應用于電子、通信、超導、航天等尖端領域。

名稱

密度

色澤

熔點

沸點

銅靶材

8.92g/cm3

紫紅色

1083.4℃

2567℃

常用純度

99.9%3N,99.99%4N,99.999%5N,99.9999%6N

銅靶材用途:適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等,可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等,相對其它靶材,銅靶材的價格較低,所以銅靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。

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