電鍍涂裝超純水設備,表面處理清洗純水設備
概述:4、EDI是利用陰、陽離子膜,采用對稱堆放的形式,在陰、陽離子膜中間夾著陰、陽離子樹脂,分別在直流電壓的作用下,進行陰、陽離子交換。而同時在電壓梯度的作用下,水會發生電解產生大量H+和OH-,這些H+和
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電鍍涂裝超純水設備,表面處理清洗純水設備
電鍍涂裝超純水設備,表面處理清洗純水設備 的工藝:
反滲透設備主機系統
反滲透主機: 反滲透法能適應各類含鹽量的原水,尤其是在高含鹽量的水處理工程中,能獲得很好的技術經濟效益。反滲透法的脫鹽率提高,回收率高,運行穩定,占地面積小,操作簡便,反滲透設備在除鹽的同時,也將大部分細菌、膠體及大分子量的有機物去除。
三、反滲透設備殺菌消毒系統: 紫外線殺菌器+臭氧發生器
我公司生產的RO純水機根據用戶要求設計制造反滲透系統,一般產水下限0.125m3/hr,水回收率一般可達75%以上,脫鹽率>97%,關鍵設備采用進口產品,工藝先進,質量可靠,可擴展性強,結構合理占地小,水利用率高,能耗低,操作維護簡單。電控部分為韓國LG公司產的PLC可編程自動控制。 反滲透純水系統根據不同的源水水質采用不同的工藝。一般自來水經一級反滲透系統處理后,產水電導率<10μS/cm,經二級反滲透系統后產水電導率<5μS/cm甚至更低,在反滲透系統后輔以離子交換設備或EDI設備可以制備超純水,使電阻率達到18兆歐姆(電導率=1/電阻率)。
3、RO 主機系統引進國際上先進的反滲透技術,利用壓力差 原理,能有效地去除水中的鹽。
4、混合采用離子交換技術,內裝陰、陽樹脂,合理的樹脂 層高度能有效地保證出水水質滿足用戶要求。 電子工業超純水設備應用范圍 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路、超純材料和超 純化學試劑、實驗室和中試車間、汽車家電表面拋光處理醫藥行 業用水、其他高科技精微產品行業。EDI是利用陰、陽離子膜,采用對稱堆放的形式,在陰、陽離子膜中間夾著陰、陽離子樹脂,分別在直流電壓的作用下,進行陰、陽離子交換。而同時在電壓梯度的作用下,水會發生電解產生大量H+和OH-,這些H+和OH-對離子膜中間的陰、陽離子不斷地進行了再生。使得純水度越來越高產生了高純度的超純水。



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