頂立科技立式化學(xué)氣相沉積爐(沉積炭) 

概述:立式化學(xué)氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳?xì)錃怏w(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理
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服務(wù)區(qū)域:
全國(guó)
聯(lián)系電話:
18874256050
信用:4.0  隱性收費(fèi):4.0
描述:4.0  產(chǎn)品質(zhì)量:4.0
物流:4.0  服務(wù)態(tài)度:4.0
默認(rèn)4分 我要打分
立式化學(xué)氣相沉積爐(沉積炭)技術(shù)特征

根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)構(gòu)設(shè)置溫區(qū),溫度均勻性好;

采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);

采用多通道沉積氣路,流場(chǎng)均勻,無(wú)沉積死角,沉積效果好;

對(duì)炭沉積過(guò)程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效的處理


立式化學(xué)氣相沉積爐(沉積炭)產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號(hào) VCVD-0305-C VCVD-0608-C VCVD-0812-C VCVD-1015-C VCVD-1120-C VCVD-1520-C HCVD-151530-C
工作區(qū)尺寸D×H(mm) Φ300×500 Φ600×800 Φ800×1200 Φ1000×1500 Φ1500×2000 Φ1500×2000 Φ2600×3200
最高溫度(℃) 1500 1500 1500 1500 1500 1500 1500
溫度均勻性(℃) ±5 ±5 ±7.5 ±7.5 ±10 ±10 ±15
極限真空度(Pa) 50 50 50 50 50 50 50
壓升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整,不作為驗(yàn)收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。


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