頂立科技立式化學(xué)氣相沉積爐（碳化硅）
概述：立式化學(xué)氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。
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技術(shù)特征
采用先進的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動范圍小；
采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物能進行有效處理；
采用最新設(shè)計防腐蝕真空機組，持續(xù)工作時間長，維修率極低。
立式化學(xué)氣相沉積爐（碳化硅）配置選擇
爐門：絲杠升降/液壓升降/手動升降；手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊
爐殼：全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
爐膽：軟碳?xì)?軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈/CFC
加熱器、馬弗：等靜壓石墨/模壓三高石墨/細(xì)顆粒石墨
工藝氣路系統(tǒng)：體積/質(zhì)量流量計；手動閥/自動閥；進口/國產(chǎn)
熱電偶：C分度號/S分度號/K分度號/B分度號
記錄儀：無紙記錄儀/有紙記錄儀；進口/國產(chǎn)
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