硅片清洗機
概述：硅片清洗機：可提供從研磨到最終清洗的全流程清洗工藝非標設備定制（研磨后清洗：去除研磨磨粒，主要使用堿和界面清洗劑。堿性蝕刻清洗：去除研磨后的加工變形。前熱處理清洗：在RCA清洗工藝基礎上，調整工
硅片清洗機：可提供從研磨到最終清洗的全流程清洗工藝非標設備定制（研磨后清洗：去除研磨磨粒，主要使用堿和界面清洗劑。堿性蝕刻清洗：去除研磨后的加工變形。前熱處理清洗：在RCA清洗工藝基礎上，調整工藝路線配置。熱處理后清洗：在RCA清洗工藝基礎上，調整工藝路線配置。拋光后清洗設備：在RCA清洗工藝基礎上，包括DHF/SC-1/SC-2/O3處理。最終清洗：在RCA清洗工藝基礎上，DHF/SC-1/SC-2/O3進行工藝清洗處理。設備槽體可設計為單排或雙排，槽體材質根據藥液不同可采用NPP、PVDF、PTFE、石英、不銹鋼等材料。晶圓尺寸、晶圓每批處理數量不同，槽體尺寸相應調整，配有晶圓干燥裝置。機械臂定位精度高；作業區內有害氣體多種安全主動及被動保護相結合，保證操作人員作業環境及人身安全；客制化設計能力佳，高設計能力滿足客戶制程工藝需要；機械臂裝置Robot的工藝路徑種類N種（設備出廠前載入PLC內）；傳送定位精度≤0.3mm， 機械臂走向右進左出’或‘左進右出’；制程控制為PLC控制方式；操作界面為全圖形化中文彩色人機界面（10.4彩屏）；槽體數量根據制程工藝要求選擇定制；設備制造北京華林嘉業科技有限公司（CGB）13911568117；
[本信息來自于今日推薦網]
- hualinjiaye發布的信息
- 外延石英鐘罩清洗機
- 外延石英鐘罩清洗機 適用于LPE外延爐PE2061（S）、PE3061、ASM E2000、AMAT CENTURA200、MOORE77**/78**五種爐子的石英鐘罩及石英件的清洗；適用于半導體材料行業；手動、自動控制模式； 適用對象參數為...
- 全自動高溫蝕刻臺（半導體晶圓）
- 全自動高溫蝕刻臺 本機臺為雷射正切之后，去除焦碳的必要制程設備；另可進行表面粗化、LBR及 PSS作業，切中各LED晶粒廠極欲提升產品亮度的需求；適用對象為2-6inch藍寶石晶片；25 Pcs/cassette，1 casset...
- 藍寶石晶體回料高溫蝕刻清洗臺
- 藍寶石晶體回料高溫蝕刻清洗臺 機臺位于長晶后處理廠房內（室內放置型）進料端為十萬級；出料端為千級，其主要功能是對破碎后的晶體進行表面清洗;適用對象為形狀不規則塊料，塊料:60mm*60mm*60mm(L*W*H)，...
- 全自動晶圓腐蝕機（多晶硅腐蝕機浸泡 式腐蝕清洗 電子清洗設備）
- 全自動晶圓腐蝕機（多晶硅腐蝕機浸泡 式腐蝕清洗 電子清洗設備） 用于晶圓片的清洗；適用于單片6″8″12″晶圓片。可能采用兆聲波清洗（MHz級超聲）增強效率，尤其擅長清除頑固顆粒和有機物；高壓噴淋與化...
- 晶圓單片清洗機
- 晶圓單片清洗機 用于晶圓片的清洗；適用于單片6″8″12″晶圓片。在半導體制造流程中，單片晶圓清洗機是確保芯片良率與性能的關鍵環節。機臺通過物理沖擊、化學腐蝕和表面改性等多維度手段，去除晶圓表面...
- 蝕刻清洗臺（硅片晶圓襯底外延片清洗）
- 蝕刻清洗臺（硅片晶圓襯底外延片清洗） 適用產業為半導體照明（LED）--襯底工藝段、PSS工藝段、外延工藝段 、芯片工藝段；手動、自動控制模式；適用于藍寶石晶片2-8inch25 Pcs/cassette數量1 cassette/ ...
